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科学家开发出芯片堆叠新工艺 将高带宽存储器集成密度翻两番

字号+ 作者:取义成仁网 来源:焦点 2026-09-21 00:34:18 我要评论(0)

韩国工业技术研究所和浦项科技大学科学家开发出一项新工艺,能稳定堆叠10余片超薄半导体芯片,由此实现了约4倍于商用高带宽存储器HBM)的集成密度。这一突破有望缓解人工智能AI)面临的存储瓶颈。相关论文发

韩国工业技术研究所和浦项科技大学科学家开发出一项新工艺,科学宽存能稳定堆叠10余片超薄半导体芯片,家开集成由此实现了约4倍于商用高带宽存储器(HBM)的发出翻两番集成密度。这一突破有望缓解人工智能(AI)面临的芯片新工存储瓶颈。相关论文发表于新一期《工程成果》杂志。堆叠

转印和原位黏合概念图。储器图片来源:《工程成果》杂志

以ChatGPT、密度图像生成AI和自动驾驶为代表的科学宽存AI服务有一个共同要求:必须以极高速度处理海量数据。为提升AI芯片的家开集成性能,科学家不再一味横向铺展芯片,发出翻两番而是芯片新工让其垂直堆叠,就像城市用地紧张时,堆叠以摩天大楼取代独栋房屋一样。高带HBM正是储器通过垂直堆叠多个存储芯片构建而成。

然而,堆叠超薄芯片面临极大难题。当芯片厚度减至数十微米,变得比头发丝还细时,多层堆叠便极易诱发弯曲、翘曲甚至断裂。随着层数增加,堆叠难度显著提升。

为突破上述局限,团队将转移印刷与原位黏合两种技术融合在同一个工艺平台上。转移印刷负责将芯片精准放置到目标位置;原位黏合则使芯片在转移过程中同步完成键合。这一集成方法使芯片的转移、放置和电气互联一气呵成。

为验证新工艺,团队制备了厚度约14微米的超薄硅芯片,每片都集成垂直电信号路径和横向再分配布线,这种结构极其适合多层集成。利用该工艺,在低温(低于180℃)和低压(低于2万帕斯卡)的温和条件下,成功堆叠了10余片超薄芯片。结果显示,即便多次堆叠之后,层间对准误差依然极小,结构翘曲也被显著抑制,所得的集成密度(总封装厚度)内可堆叠的芯片层数约是传统12层HBM结构的4倍。换句话说,在同样垂直高度内,能够容纳数倍于以往的芯片。

这项技术一旦商业化,将极大提升给定空间内的芯片集成度,从而显著增强AI半导体的性能,因此有望成为未来高性能AI芯片与下一代存储系统的关键技术。此外,该技术还可拓展至基于小芯片的异构集成和下一代微型LED显示器,展现出广阔的应用前景。

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